Технология полупроводниковых материалов

Учебное пособие для повышения квалификации ИТР. — М.: Металлургия, 1987. — 336 с.Систематизирование изложены современные технологии важнейших полупроводниковых материалов. Рассмотрены подготовка основных и вспомогательных материалов, выращивание однородно легированных монокристаллов с совершенной структурой, получение высокочистых поликристаллических полупроводников, эпитаксиальных слоев, гомо- и гетероструктур методами газовой и жидкостной эпитаксии, изготовление пластин и подложек.
Учебное пособие предназначено для повышения квалификации и переподготовки мастеров, начальников участков и цехов полупроводникового производства. Может быть полезна студентам вузов, обучающимся по специальностям: «Технология специальных материалов электронной техники», «Полупроводники и диэлектрики», «Полупроводниковые приборы».ОглавлениеПолупроводники
Общие сведения о полупроводниках
Физико-химические свойства важнейших
Основные и вспомогательные материалы полупроводникового производства
Чистое вещество
Подготовка основных материалов
Подготовка вспомогательных материаловТехнология поликристаллических полупроводников
Германий
Кремний
Полупроводниковые соединенияТехнология объемных монокристаллов полупроводников
Методы выращивания монокристаллов
Распределение примеси в процессах направленной
Легирование и компоновка
Получение однородно легированных
Получение высокочистых монокристаллов
Получение монокристаллов с совершенной структурой
Аппаратура для выращивания объемныхТехнология подложек
Подготовка монокристаллов к резке на пластины
Резка монокристаллов
Шлифовка пластин
Полировка пластин
Межоперационная и финишная очистка пластин
Контроль технологического процесса изготовления подложек
и их качестваТехнология эпитаксиальных структур
Получение однослойных структур кремния и германия из газовой фазы
Получение эпитаксиальных структур полупроводниковых соединений